Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“. Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas. 2000.
Plasma-Ätzen — Plasmaätzen ist ein materialabtragendes, plasmaunterstütztes, gaschemisches Trockenätz Verfahren, das besonders in der Halbleitertechnik, Mikrostrukturtechnologie und in der Displaytechnik großtechnisch eingesetzt wird. Der Begriff Plasmaätzen… … Deutsch Wikipedia
Plasmaätzen — ist ein materialabtragendes, plasmaunterstütztes, gaschemisches Trockenätz Verfahren, das besonders in der Halbleiter , Mikrosystem und Displaytechnik großtechnisch eingesetzt wird. Der Begriff Plasmaätzen ist ein eher umgangssprachlicher Begriff … Deutsch Wikipedia
RIE-Prozess — Plasmaätzen ist ein materialabtragendes, plasmaunterstütztes, gaschemisches Trockenätz Verfahren, das besonders in der Halbleitertechnik, Mikrostrukturtechnologie und in der Displaytechnik großtechnisch eingesetzt wird. Der Begriff Plasmaätzen… … Deutsch Wikipedia
etching reactor — ėsdinimo reaktorius statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. etching reactor vok. Ätzreaktor, m rus. реактор для травления, m pranc. réacteur du décapage, m … Radioelektronikos terminų žodynas
réacteur du décapage — ėsdinimo reaktorius statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. etching reactor vok. Ätzreaktor, m rus. реактор для травления, m pranc. réacteur du décapage, m … Radioelektronikos terminų žodynas
ėsdinimo reaktorius — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. etching reactor vok. Ätzreaktor, m rus. реактор для травления, m pranc. réacteur du décapage, m … Radioelektronikos terminų žodynas
реактор для травления — ėsdinimo reaktorius statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. etching reactor vok. Ätzreaktor, m rus. реактор для травления, m pranc. réacteur du décapage, m … Radioelektronikos terminų žodynas
